微弧氧化是一項(xiàng)新技術(shù)，其作用相信很多人都清楚，這就不一一介紹了，下面為大家說一下微弧氧化膜層是怎么形成的。

　　首先在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，產(chǎn)生一層陽(yáng)極氧化膜。

　　當(dāng)反應(yīng)電壓增加時(shí)，膜厚度會(huì)進(jìn)一步增加，電壓會(huì)繼續(xù)增加，厚度會(huì)相應(yīng)增加。

　　但當(dāng)反應(yīng)電壓增加到一定程度時(shí)，膜層會(huì)因無法承受工作電壓而放電和擊穿，產(chǎn)生等離子體放電。

　　反應(yīng)的高溫會(huì)熔化膜層，氧化物會(huì)在富氧環(huán)境中形成。同時(shí)，因?yàn)樗陔娊赓|(zhì)中，熔融物瞬間冷凝，在基體表面產(chǎn)生一層陶瓷。

　　陶瓷膜的產(chǎn)生會(huì)導(dǎo)致工作電壓進(jìn)一步升高，膜層再次被擊穿，膜層厚度進(jìn)一步增加，膜層反復(fù)生長(zhǎng)。