微弧氧化同陽極氧化的區(qū)別在于微弧氧化時微等離子體高溫高壓區(qū)瞬間燒結(jié)作用使無定形氧化物變成晶態(tài)相。

　　微弧氧化從普通陽極氧化發(fā)展而來，其裝置包括專用高壓電源、氧化槽、冷卻系統(tǒng)和攪拌系統(tǒng)。氧化液大多采用堿性溶液，對環(huán)境污染小。溶液溫度以室溫為宜，溫度變化范圍較寬。溶液溫度對微弧氧化的影響比陽極氧化小得多，因為微弧區(qū)燒結(jié)溫度達幾千度，遠高于槽溫，而陽極氧化要求溶液溫度較低，特別是硬質(zhì)陽極氧化對溶液溫度限制更為嚴格。微弧氧化工件的形狀可以較復(fù)雜，部分內(nèi)表面也可處理。此外，微弧氧化工藝流程比陽極氧化簡單得多，也是此技術(shù)工藝特點之一。

　　陽極氧化膜同基體結(jié)合良好，但不具備陶瓷膜的高耐磨損及耐腐蝕性能。微弧氧化直接把基體金屬氧化燒結(jié)成氧化物陶瓷膜，不從外部引入陶瓷物料，同其它陶瓷膜制備技術(shù)的出發(fā)點完全不同。使微弧氧化膜既有陶瓷膜的高性能，又保持了陽極氧化膜與基體的結(jié)合力，在理論和應(yīng)用上都突破了其它技術(shù)的束縛。從圖1看出，鋁合金微弧氧化膜具有致密層和疏松層兩層結(jié)構(gòu)，氧化膜與基體之間界面上無大的孔洞，界面結(jié)合良好。